Зеленоградский нанотехнологический центр (резидент ОЭЗ «Технополис Москва») в партнёрстве с белорусским заводом создал первый в России фотолитограф для производства микросхем с топологическими нормами до 350 нм, сообщил в своём Telegram-канале мэр Москвы Сергей Собянин.

Такие микросхемы используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах.

В мире подобное оборудование выпускают всего три компании: голландская ASML и две японские – Nikon и Canon. При этом отечественная установка отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. #москва